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Vakuum-Förderer: Geringer Platzbedarf

Chemie
Vakuum-Förderer: Geringer Platzbedarf

Vakuum-Förderer: Geringer Platzbedarf
Der Vakuum-Förderer IC 33 ist speziell für die produzierende Industrie ausgelegt. Die Serie besteht aus drei Versionen, die alle mit einer innovativen Pumpentechnologie ausgestattet sind, die sehr wenig Energie verbraucht. Das kompakte Design des Förderers ermöglicht es dem Anwender, den Platzbedarf zu minimieren. Dies wird ganz besonders deutlich, vergleicht man den Förderer mit Schneckenförderern oder Förderbändern. Das zu fördernde Material wird bei Verwendung des Piab-Systems durch Rohre oder Schläuche geleitet, wodurch eine flexible Führung des Materialflusses möglich ist. Gefördert werden können Materialien, deren Form ähnlich Flakes, Pellets oder Pulver ist. In Abhängigkeit von der Förderlänge und Materialbeschaffenheit lassen sich Mengen von 500 bis 2000 kg/h bewegen.

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