Die universell einsetzbare Niederdruck-Gas-Plasma-Laboranlage Labsystem von Polyplas ist sowohl mit korrosiven Gasen wie CF4 oder Sauerstoff als auch mit allen anderen Gasen sowie deren Gemischen zu betreiben. Labsystem 2,45/200 M ist als Tischmodell komplett einsatzfähig mit einer Vakuumpumpe und elektronischer Steuerung ausgestattet. Es besteht der Zugriff auf 10 verschiedene Programme. Das System hat einen Aluminium Rezipienten (Durchmesser 200 mm, Länge 250 mm) und wird mit GHz betrieben. In dem Gerät lassen sich die typischen Änderungen der Oberflächeneigenschaften wie Hydrophilierung, Hydrophobierung, Aktivierung oder Desoxydation erreichen. Natürlich erlaubt die Konfiguration auch Ultra clean für alle Werkstoffe wie Keramik, Glas, nicht metallische und metallische Oberflächen. Auch Ätzen von Metallen und Kunststoffen ist möglich.
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Die Websession „Wasserstoff in der Chemie – Anlagen, Komponenten, Dienstleistungen“ (hier als Webcast abrufbar) zeigt technische Lösungen auf, die die Herstellung und Handhabung von Wasserstoff in der chemischen Industrie sicher machen und wirtschaftlich gestalten.
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