Reinigungsverhalten. Lexikon Pharmatechnologie - prozesstechnik online

Lexikon Pharmatechnologie

Reinigungsverhalten

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Eigenschaft einer Oberfläche nach einer definierten Verunreinigung mittels einer exakt definierten, standardisierten Reinigungsprozedur (z. B. CIP-Prozess mit Medien, Konzentrationen, Temperatur, Sprühdruck, Sprühzeit etc.) auf einen definierten Reinigungszustand (Restkontaminationsgrad, siehe Kontamination) gereinigt werden zu können, wobei dieser Vorgang in zulässigen Grenzen unbeschränkt reproduzierbar sein muss. Dabei ist von Bedeutung, dass der Reinigungsvorgang einfach, rasch und kostengünstig erfolgen kann, das heißt mit minimalem Reinigungschemikalienaufwand und geringstem Energieaufwand. Spezielle Versuche mit standardisierten CIP-Reinigungsverfahren auf Restverunreinigungen bzw. Nachkeimungseffekte auf Bauteiloberflächen aus austenitischen Edelstahllegierungen haben gezeigt, dass das mit Abstand beste Reinigungs- / Hygieneverhalten durch fachgerecht elektrochemisch polierte Oberflächen erzielt wird und diese Ergebnisse zudem über befriedigend lange Zeiträume nachvollziehbar sind, also ideale Bedingungen für verliche automatische Reinigungsprozesse darstellen.

Die nähere Analyse zeigt, dass für die Entfernung von Verunreinigungen auf Oberflächen die wahre Berührungsfläche und die Berührungskraft zwischen Partikel und Oberfläche von Bedeutung sind. Diese Größen werden grundsätzlich von der Oberflächenmikrotopographie (Topographie) und der Oberflächenspannung (Energieniveau), z. B. der Edelstahloberfläche, bestimmt.

Die Berührungs- oder Haftkräfte zwischen Partikel und Oberfläche sind meist Dispersionskräfte (z. B. Van-der-Waals-Kräfte). Die Ermittlung der Haftkräfte erfolgt im Labor, z. B. anhand der AMF-Analyse (Atomic Microscopic Force).

© 2013 – ECV – Lexikon der Pharmatechnologie

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