UV-Spezialist Berson UV-techniek hat eine UV-Anlage zur Entfernung von Ozon und Endotoxinen aus Prozesswasser entwickelt. Ozon wird häufig als Desinfektionsmittel eingesetzt, ist aber aufgrund seiner Eigenschaften nicht nur giftig, sondern kann auch empfindliche Prozessgeräte wie Umkehr-osmosemembranen und Entsalzungsanlagen beschädigen. Aus diesem Grund muss das Ozon nach der Desinfizierung entfernt werden. Die in den Zellwänden von Gram-negativen Bakterien vorhandenen Endotoxine stellen eine potenzielle Gefahr für die Gesundheit dar und müssen ebenfalls aus Prozesswasser entfernt werden. Dies gilt insbesondere für hochreine Anwendungen. Die UV-Technologie hat sich als Methode zur Entfernung von Ozon und Endotoxinen bewährt. Zwischen Wellenlängen von 200 bis 300 nm (die optimale Wellenlänge ist 260 nm) absorbiert Ozon UV-Strahlung und wird schnell in ungefährliche Komponenten zersetzt. Endotoxine absorbieren UV bei kürzeren Wellenlängen unter 240 nm und werden ebenfalls schnell zerstört. Bei UV-Lampen unterscheidet man zwischen Nieder- (254 nm) und Mitteldrucklampen (200 bis 400 nm). Beide Lampentypen eignen sich für den Abbau von Ozon, zum Zerstören der Endotoxine eignen sich jedoch nur Mitteldrucklampen. Letztere bieten den zusätzlichen Vorteil, dass auch Mikroorganismen im Prozesswasser deaktiviert werden. Denn: Mikrobielle DNS wird durch UV-Licht mit einer Wellenlänge zwischen 260 und 270 nm zerstört. In den Berson-Anlagen kommen beide Lampentypen zum Einsatz.
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