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Plattenfilter fängt ultrafeine Staubpartikel auf

Chemie
Plattenfilter fängt ultrafeine Staubpartikel auf

Die langlebige Filtertechnik mit neuem Plasmafil von Kemper wurde speziell für Plasmaschneidanlagen entwickelt und bietet eine nahezu unbegrenzte Standzeit. Regelmäßige Überholungen des Filters sind nicht nötig. Herzstück des Systems ist ein innovativer Plattenfilter mit spezieller Beschichtung, das die Luft auch von ultrafeinen Staubpartikeln reinigt. Weil die Rohluft im Down-Flow-Prinzip von oben in die Filteranlage einströmt, wurde der Filter als Platte und nicht wie bisher als Zylinder konstruiert. Im Gegensatz zu den runden Filterpatronen bewegen sich die einzelnen Falten nicht aufeinander zu, was ein Verkleben verhindert. Dadurch steht die gesamte Filterfläche für den Filterprozess zur Verfügung. Zudem vermeidet der integrierte Funkenvorabscheider Sparktrap Filterbrände durch die Vorabscheidung grober Stäube und Funken.

Anders als herkömmliche Anlagen verzichtet das System auf einen Staubsammelbehälter. Mit Dustevac setzt der Hersteller auf eine vakuumbasierte Entsorgung. Der Staub wird in einem Bigbag mit einer hohen Kapazität gesammelt. Dieser ermöglicht eine kontaminationsfreie Entsorgung und kann während des Schneidprozesses gewechselt werden.
prozesstechnik-online.de/cav0713445
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