Das Prozessfotometer Defor detektiert Gase im ultravioletten Spektralbereich. Durch den spektralen Fingerabdruck lassen sich Gase identifizieren und analysieren. Defor nutzt die optischen Eigenschaften von Gasen im ultravioletten Spektralbereich und misst bis zu drei Messkomponenten simultan. Es bestehen keine Querempfindlichkeiten gegenüber CO2 und H2O. Auch deshalb ist die Gewinnung exakter Messwerte in vielen Anwendungen vereinfacht. Zusätzlich zur Messung äußerst kleiner NO-Konzentrationen kann mit Defor gleichzeitig NO2 bestimmt werden. Das macht den Einsatz eines Chemielumineszens-(CLD)-Analysators oder eines NO2-Konverters bei vielen Emissionsmessungen überflüssig. Neben der Messung von UV-aktiven Gasen kann der Defor mit weiteren Messmodulen von Sick zusammenarbeiten – alle integriert in einem Gehäuse. Für den explosionsgefährdeten Einsatzort ist das Gerät mit der Schutzart Überdruckkapselung in der Ex-Zone 1 und in der Ex-Zone 2 einsetzbar.
Halle 14, Stand K10
Online-Info www.cav.de/0410442
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